Bruker布魯克 JV-QCVelox X射線衍射儀 XRD

Bruker布魯克 JV-QCVelox X射線衍射儀 XRD

——用于 LED 和外延層晶圓分析的生產專用高分辨率 X 射線衍射系統

產 品 概 述

Bruker’的 JV-QCVelox 是長期運行的 JV-QC 儀器中新、先進的 HRXRD。
它是化合物半導體行業高分辨率 X 射線衍射的專用質量控制工具。 它適用于表征所有常見的半導體襯底，包括Si、GaAs、InP、GaN 等。
測量可以部分或*自動化運行，用戶可自定義的腳本處理日常工作。

VeloMAX™ 光學器件：通過 10 倍以上的強度改進實現高生產率

JV-QC-Velox 系統的入射光束包括許多標準功能以獲得高強度。 晶體選擇根據材料進行了優化：

·在不損失分辨率的情況下，提高了通量并提高了可重復性。
·在不降低分辨率的情況下，可以實現比以前更快的測量和更高的精度。 這是在 MQW 分析中保持準確的成分值的關鍵。
·多層反射鏡作為所有 JV-QC-Velox 系統的標準配置
·對于高鑲嵌樣品，使用 25 英寸的調節晶體發散角來增強系統（標配）
·對于傳統的 III-V 系統，可以提供更高分辨率的調節晶體 (<10") 來代替 25" 晶體（需要在采購訂單上注明）
·系統的校準可以輕松安全地進行，機柜中沒有開梁。

·檢測器級包括許多標準功能，可以增強系統的能力
·EDRc（增強動態范圍）檢測器的動態范圍 > 2x107
·自動衰減器，通過控制軟件進行控制。這將系統動態范圍增加到超過3x108

·三軸晶體是獲得所需晶體的關鍵GaN測量的分辨率。
·電動探測器狹縫允許對系統進行控制分辨率，無需手動更換模塊
·所有探測器級組件都是自動對齊的通過電腦

HRXRD 技術

材料：單晶襯底（例如 Si、GaAs、InP、GaN）和外延
層，包括多層結構
參數：層厚度、成分和松弛、應變、區域均勻性、失配、摻雜劑水平、錯切、層傾斜。
·直接測量多層結構內層的松弛/應變/組成
·自動樣品校準、測量、分析和報告

·由 JV-RADS 軟件執行的分析。
·化合物半導體襯底可實現對稱、非對稱和斜對稱反射

VeloSWAP: 高級樣品板

運動學樣品板：可以快速更換樣品板——每個板都可以在幾秒鐘內移除/更換。 由于運動加載，安裝后無需對齊板。 可以提供多個板并互換使用。
·31 x 2" 運動學樣品板，用于大批量測量，以增加板重新加載之間的
時間并提高生產力和工具效率。
·外部條碼閱讀器可以安裝到工具或獨立站。

JV-QCVelox 配備機器人，可從晶圓盒進行全自動測量

·2" 至 200 毫米磁帶
·自動檢測晶圓盒尺寸
·任意數量插槽的任意配方組合
·提高更大晶圓尺寸的生產力
·無需人工處理晶圓，提高晶圓清潔度

bruker布魯克 JV-QCVelox X射線衍射儀 XRD產品規格